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“真空磁控溅射镀膜机/真空镀膜机”参数说明
| 是否有现货： | 否 | 加工定制： | 是 |
| 品牌： | YJ |
“真空磁控溅射镀膜机/真空镀膜机”详细介绍
设备说明：
磁控溅射真空镀膜机是立式单开门非平衡磁控反应溅射镀膜机。此设备所沉积的膜层在致密度、均匀度、纯度、硬度等方面均有提高。广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。
主要特点：
1、沉积速率快，温升小，能较好的抑制打火及靶中毒现象；
2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；
3、触摸屏幕+PLC，可实现全自动控制，自动/手动随时切换；
4、镀膜室容积大，装载量大，生产效率高。
5、工件架采用公自转结构，可设置自动正反转，产品均匀性好；
6、整机配置合理，抽气速率快，噪声小，耗能低；
基本配置：
1、镀膜室、阀门、管道均采用不锈钢制造，立式、单开门结构，真空室有效直径自Φ1000mm－Φ1800mm；
2、真空系统由机械泵、旋片泵、罗茨泵和带冷阱高真空油扩散泵或分子泵组成；
3、镀膜系统采用2~8套平面靶或柱靶，配有2~8个直流电源或中频电源；
4、辅助抽气系统采用一台低温水汽捕集器；
5、充气系统采用1~4路气体流量计及流量控制（显示）仪控制；
6、电控系统设置电路过载、断水、断气声光报警装置；
7、控制系统（触摸屏+PLC），实时显示详细参数，全自动控制整个生产过程，并自动存储工艺参数；
8、可根据客户要求配多套靶源。
技术参数
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总重量 |
3500kg~6000kg |
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名义功率 |
80KW~180KW |
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抽速（新机、空载） |
2×10-3Pa≦8min |
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极限真空（新机、空载） |
≦8×10-4Pa |
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压升率（新机、空载） |
0.67Pa/小时 |
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工件转速 |
0~20r/min |
